平均粒度檢測(cè)儀
WLP-209型平均粒度測(cè)試儀 
　　WLP-209型平均粒度測(cè)試儀根據(jù)標(biāo)準(zhǔn)（費(fèi)氏法）要求，在對(duì)被測(cè)粉末試樣施壓時(shí)，采用了LTDK型可設(shè)定空轉(zhuǎn)式扭矩起子，（非同其他儀器所使用無(wú)科學(xué)依 據(jù)的壓力校正器）。采用LTDK型扭矩起子，可使任何操作人員在對(duì)粉末測(cè)試過(guò)程中均可達(dá)到相同的壓制力，精準(zhǔn)地得到同一種*孔隙度，消除了人為誤差，使 被測(cè)粉末粒徑更加準(zhǔn)確，同時(shí)本儀器配有雙向擴(kuò)展讀數(shù)板，孔隙度范圍由原來(lái)的0.80—0.40（擴(kuò)到0.95—0.80、擴(kuò)到0.40—0.25），滿(mǎn)足 了各種粉末測(cè)試需求。 
平均粒度檢測(cè)儀技術(shù)指標(biāo)：  

1、精度：±3%  
2、測(cè)試范圍： 0.2-50 μ m （微米）  
　　 *檔： 0.2-20 μ m  
　　 第二檔： 20-50 μ m  
3.孔隙度范圍：0.95－0.80 
　　　　　　　0.80－0.40 
　　　　　　　0.40－0.25 
4、準(zhǔn)確度：±3%  
5、環(huán)境濕度：相對(duì)濕度 ≤80%  
6、環(huán)境溫度： 25 ± 10 ℃  
7、電源： ～220 ± 22V 50赫茲 
8、功率： 25W  
9、重量： 18kg  
10、外型尺寸： 746 × 394 × 240mm3 

產(chǎn)品名稱(chēng)：恒壓過(guò)濾實(shí)驗(yàn)裝置 產(chǎn)品型號(hào)：HGGL/HY 恒壓過(guò)濾實(shí)驗(yàn)裝置型號(hào)：HGGL/HY 實(shí)驗(yàn)?zāi)康模?nbsp; 1、掌握過(guò)濾的基本方法。  2、掌握在恒壓下過(guò)濾常數(shù)K、當(dāng)量濾液體積qe的求取。  3、觀察過(guò)濾終了速率與洗滌速率的關(guān)系。  主要配置：  板框過(guò)濾機(jī)、空壓機(jī)、壓力容器、計(jì)量槽、盛渣槽、攪拌電機(jī)、控制閥、不銹鋼框架。  技術(shù)參數(shù)：  1、板框過(guò)濾機(jī)的過(guò)濾面積：0.084m2，過(guò)濾介質(zhì)：帆布。  2、空壓機(jī)排氣量：0.036m3/h，壓力：0.7MPa，功率：750KW。  3、壓力容器：容積約35L，上裝壓力表（0-0.6Mpa）、空壓    機(jī)入口給混合液加壓、視鏡可方便觀察容器內(nèi)的液位。  4、盛渣槽：過(guò)濾時(shí)會(huì)有一定泄漏現(xiàn)象，為保證實(shí)驗(yàn)室的衛(wèi)生用來(lái)盛泄漏的混合液。  5、計(jì)量槽由有機(jī)玻璃制成，容積：約14L。  6、攪拌器轉(zhuǎn)速：0-200轉(zhuǎn)/min。  7、框架為不銹鋼，結(jié)構(gòu)緊湊，外形美觀，流程簡(jiǎn)單,操作方便。  8、外形尺寸：1700×600×1600mm。  數(shù)據(jù)采集型（ HY GL/Ⅱ）：配計(jì)算機(jī)、微機(jī)接口和數(shù)據(jù)處理軟件、重量傳感器、壓力傳感器。能在線監(jiān)測(cè)慮液量、壓力等實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)。

產(chǎn)品名稱(chēng)：電化學(xué)工作站  產(chǎn)品型號(hào)： CS310

電化學(xué)工作站 工作站  型號(hào)： CS310

• 技術(shù)參數(shù)

• 1、硬件參數(shù)指標(biāo)
  恒電位儀電位控制范圍：±10V
  電流控制范圍：±2.0A
  電位控制精度：0.1%×滿(mǎn)量程讀數(shù)±1mV
  電流控制精度：0.1%×滿(mǎn)量程讀數(shù)
  電位分辨率：10uV(>100Hz), 2uV(<10Hz)
  電流分辨率：10pA
  電位上升時(shí)間：<1uS(<10mA),<10uS(<2A)
  輔助數(shù)據(jù)采集24位@100Hz,20bit@1KHz

  參比電輸入阻抗：¹⁰¹²歐姆||20pF
  電流量程： 2A～200nA, 共8檔
  槽壓：21V
  CV 和LSV掃描速度：0.01mV～10000V/s
  CA和CC脈沖寬度：0.0001～1000s
  電位掃描時(shí)電位增量：0.1mV@1V/mS
  SWV頻率：0.001～100KHz
  DPV和NPV脈沖寬度：0.0001～1000s
  AD數(shù)據(jù)采集：16位@1MHz,20bit @1kHz
  CV的zui小電位增量：0.075mV
  電位和電流測(cè)量低通濾波器
  電流與電位量程：自動(dòng)設(shè)置
  接口通訊模式：USB2.0
  2、電化學(xué)阻抗測(cè)量指標(biāo)
  信號(hào)發(fā)生器
  頻率響應(yīng)：10uHz~100kHz
  交流信號(hào)幅值：0mV~2500mV
  直流偏壓：-10~+10V
  DDS輸出阻抗：50歐姆
  波形：正弦波，三角波，方波
  正弦波失真：<1%
  掃描方式：對(duì)數(shù)/線性，增加/下降
  zui大負(fù)載電容：1nF；zui大負(fù)載電感：10uH
  信號(hào)分析器
  積分時(shí)間：zui小值：10mS 或者一個(gè)循環(huán)的zui長(zhǎng)時(shí)間
  zui大值：¹⁰⁶個(gè)循環(huán)或者¹⁰⁵S
  測(cè)量時(shí)間延遲：0~105秒
  直流偏置補(bǔ)償
  電位自動(dòng)補(bǔ)償范圍：-10V~+10V
  電流補(bǔ)償范圍：-1A~+1A
  帶寬調(diào)整(Bandwidth)：自動(dòng)或手動(dòng)設(shè)置，共8級(jí)可調(diào)
  開(kāi)路電位-時(shí)間曲線（OCPT)
  恒電位法（計(jì)時(shí)電流法, CA）
  恒電流法（計(jì)時(shí)電位法, CP）
  多電位階躍（VSTEP）
  多電流階躍（ISTEP）
  動(dòng)電位掃描（化曲線）
  線性化（LPR）
  鈍化回掃曲線（按擊穿電流回掃）
  動(dòng)電流掃描
  任意恒電位方波
  任意恒電流方波
  恒電流儀（CS300）
  循環(huán)伏安法（CV）
  電化學(xué)阻抗(頻率掃描)
  電化學(xué)阻抗(單頻時(shí)間掃描)
  電化學(xué)噪聲測(cè)量
  電偶腐蝕測(cè)量
  氫滲透監(jiān)測(cè)
  腐蝕速率計(jì)算

• 主要特點(diǎn)

• 1)輸出電流，槽壓高，可用于高阻（涂料）體系的電化學(xué)測(cè)量
  2)具有較強(qiáng)的腐蝕電化學(xué)測(cè)量分析能力
  3)交流阻抗測(cè)量具有頻率掃描和時(shí)間掃描兩種模式。

   

• 儀器介紹

• CorrTestTM電化學(xué)工作站（電化學(xué)測(cè)試系統(tǒng)）是集電化學(xué)分析方法和電化學(xué)測(cè)試方法于一體的電化學(xué)通用儀器，能完成循環(huán)伏安、階梯伏安、脈沖伏安、溶出伏安等電化學(xué)分析方法；還可以完成恒電流（位）化、動(dòng)電位（流）掃描、任意恒電流（位）方波，多恒電流（位）階躍、電化學(xué)噪聲（電偶電流）、電化學(xué)阻抗（EIS）等電化學(xué)測(cè)試等功能，還可以進(jìn)行線性?huà)呙柩h(huán)伏安（CV）、階梯波循環(huán)伏安（SCV）、方波循環(huán)伏安（SWV）、 差分脈沖伏安（DPV）和常規(guī)脈沖伏安（NPV）以及差分常規(guī)脈沖伏安（DNPV）等電分析方法。測(cè)試系統(tǒng)控制與數(shù)據(jù)處理軟件是基于Windows98/2000/XP操作系統(tǒng)的，用戶(hù)界面遵守Windows軟件的設(shè)計(jì)規(guī)則，容易安裝和使用。系統(tǒng)軟件為方便使用者提供了強(qiáng)大的功能，包括文件管理、全面的實(shí)驗(yàn)控制、靈活的圖形顯示、方便的圖形放大和還原、多種數(shù)據(jù)處理功能、數(shù)據(jù)的存貯與打印等。系統(tǒng)軟件具有良好的用戶(hù)界面，命令行參數(shù)所用的電化學(xué)理論和方法都盡可能采用zui為通用的電化學(xué)方面的術(shù)語(yǔ)，全中文菜單和界面，更方便地為教學(xué)和科研服務(wù)。
  CorrTestTM電化學(xué)工作站擁有CS系列產(chǎn)品（CS120，CS150，CS300，CS330，CS310，CS350，CS360），可用于較大電流和較高槽壓的電化學(xué)測(cè)量和應(yīng)用，例如電池、電分析、腐蝕、電解、電鍍等。儀器由數(shù)字信號(hào)發(fā)生器（DDS）、直接數(shù)據(jù)存儲(chǔ)器（DMA）和恒電位儀/恒電流儀組成，電流/電位同步數(shù)據(jù)采集。儀器的電流輸出范圍為±2A，槽壓為±21V。電壓控制范圍：±10V；電流控制范圍：±2.0A；電流測(cè)量下限低于10pA。
  CorrTestTM電化學(xué)工作站采用恒電流階躍直接測(cè)量高阻體系介質(zhì)電阻（如混凝土或涂層等介質(zhì)電阻），可對(duì)溶液電阻進(jìn)行實(shí)時(shí)或軟件補(bǔ)償；可對(duì)測(cè)試曲線進(jìn)行數(shù)字平滑，能對(duì)化曲線進(jìn)行電化學(xué)參數(shù)解析，可計(jì)算化電阻Rp值，Tafel斜率ba，bc值，交換電流密度icorr，腐蝕速率，還可計(jì)算統(tǒng)計(jì)噪聲電阻Rn，并可將圖形以矢量方式拷貝到Microsoft Word 97/2000文檔中。CorrTestTM電化學(xué)工作站采用USB或RS232串行口與計(jì)算機(jī)通訊，設(shè)備安裝簡(jiǎn)單，即插即用。
  外形尺寸：36.5cm(寬)?30.5cm(深)?16cm(高) 儀器重量：6.5Kg
  應(yīng)用領(lǐng)域
  1）研究電化學(xué)機(jī)理；物質(zhì)的定性定量分析；
  2）常規(guī)電化學(xué)測(cè)試，包括電合成、電鍍和電池性能評(píng)價(jià)；
  3）功能材料和能源材料的機(jī)理和制備研究；
  4）緩蝕劑、水質(zhì)穩(wěn)定劑、涂層以及陰保護(hù)效率快速評(píng)價(jià)以及氫滲測(cè)試等；
  5）金屬材料在導(dǎo)電性介質(zhì)（包括水/混凝土等環(huán)境）中的腐蝕電化學(xué)測(cè)試。
  
  系統(tǒng)配置
  每套工作站包括：
  1) 儀器主機(jī)一臺(tái)；
  2) 白金電、參比電、工作電及電解池各一支（套）；
  3) 模擬電解池一個(gè)；
  4) USB數(shù)據(jù)線一條；
  5) 噪聲測(cè)量電纜線一條；
  6) CorrTestTM測(cè)試與分析軟件CD一張。